熱力公司激光脫銷氨逃逸抽取式監測儀價格

簡要描述：熱力公司激光脫銷氨逃逸抽取式監測儀價格 TDLAS作為一種分析氣體的新技術，由于半導體激光光譜寬度遠小于氣體吸收譜線的寬度，因此TDLAS是一種高分辨率的光譜吸收技術。

產品型號：TK-1100
廠商性質：生產廠家
更新時間：2024-10-13
訪問量：783

產品分類

詳細介紹

品牌	其他品牌	產地類別	國產
應用領域	環保,化工,石油,建材,冶金

熱力公司激光脫銷氨逃逸抽取式氨逃逸監測儀價格

產品詳情

TK-1100激光氨逃逸監測系統特點一：一體化設計，結構緊湊，可靠性高；智能化程度高，操作、維護方便；*的光路設計，能有效的消除現場震動對光路的影響；光強補償算法，保證儀器在高粉塵、高顆粒物的工況條件下仍能準確分析儀器；

TK-1100激光氨逃逸監測系統特點二：無氣體交叉干擾，特定組分的氣體只在特定波長下存在吸收譜，具有較強的氣體選擇性；溫度、壓力補償，外部溫度、壓力輸入或內置溫度、壓力傳感器，結合優化的補償算法，提高測量的準確性；具有檢測下限低、測量結果準確、校準方便、結構簡單緊湊、無運動部件等顯著特點，方便耐用且易于安裝，廣泛適用于眾多環保企業及工業過程氣體排放氨逃逸在線監測場合。

氨逃逸形成及危害

2.1 氨逃逸的形成

在大規模燃燒礦物燃料的領域，例如燃煤發電廠，都安裝了前燃（pre-combustion)或后燃（post combustion）NOX 控制技術的脫硝裝置，后燃NOX 控制技術可以是選擇性催化還原法(SCR) 也可以是選擇性非催化還原法(SNCR)，但是無論應用哪種方法，基本原理都是一樣的，即都是通過往反應器內注入氨與氮氧化物發生反應，產生水和N2。注入的氨可以直接以NH3 的形式，也可以先通過尿素分解釋放得到NH3 再注入的形式，無論何種形式，控制好氨的注入總量和氨在反應區的空間分布便可以da化的降低NOX 排放。

氨注入的過少，就會降低還原轉化效率，氨注入的過量，不但不能減少NOX 排放，反而因為過量的氨導致NH3 逃逸出反應區，逃逸的NH3 會與工藝流程中產生的硫酸鹽發生反應生成硫酸銨鹽，且主要都是重硫酸銨鹽。銨鹽會在鍋爐尾部煙道下游固體部件表面上沉淀，例如沉淀在空氣預熱器扇面上，會造成嚴重的設備腐蝕，并因此帶來昂貴的維護費用。在反應區注入的氨分布情況與NO和NO2 的分布不匹配時也會出現氨逃逸現象，高氨量逃逸的情況伴隨著NOX 轉化效率降低是一種非常糟糕的現象和很嚴重的問題。

2.2氨逃逸的危害

（1）逃逸掉的氨氣造成資金的浪費，環境污染；

（2）氨逃逸將腐蝕催化劑模塊，造成催化劑失活（即失效）和堵塞，大大縮短催化劑壽命；

（3）逃逸的氨氣，會與空氣中的SO3生成硫酸氨鹽（具有腐蝕性和粘結性）使位于脫銷下游的空預器蓄熱原件堵塞與腐蝕；

（4）過量的逃逸氨會被飛灰吸收，導致加氣塊（灰磚）無法銷售；